Machine de coupe laser à plaquette
Avantages du produit:
Haute qualité
Il n'y a pas de dommage à la surface, pas de couture de coupe et l'effondrement du bord est très petit (inférieur ou égal à 2 μm), le bord est petit (< 3 μ m)
Grande efficacité
Le mode de modification multi-focus peut être adopté pour multiplier l'efficacité de coupe
Bonne stabilité
Le laser a une stabilité de puissance moyenne élevée (inférieure ou égale à ± 3% sur 24 heures) et la qualité des faisceaux routiers (m ² <1,5)

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Article |
Paramètres principaux |
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Laser |
Longueur d'onde centrale |
Longueur d'onde infrarouge personnalisée |
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Tête de coupe |
Tête de collimation auto-développée | |
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Performance |
AVC de travail efficace |
300x400 mm (facultatif) |
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Précision de positionnement répétitif |
±1μm |
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Positionnement visuel |
Positionnement visuel automatique |
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Méthode de traitement |
Mise à niveau de couche par couche, traitement à point / multi-points | |
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Autres |
Plaquette |
8 pouces (12 pouces est compatible) |
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Processus de traitement |
Couture modifiée au laser - étalage de film | |
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Objet de traitement |
Chip MEMS, biochip à base de silicium, puce de blé de silicium, puce CMOS, etc. | |
Dics de la plaquette de silicium:
Coupe de précision des plaquettes de silicium de 200 mm / 300 mm pour les circuits intégrés (ICS)
Minimise l'écaillage et les défauts pendant le processus de désordre
Fabrication de l'appareil MEMS:
Scribing au laser ultra-précis pour les systèmes microélectromécaniques (MEMS)
Convient aux capteurs et actionneurs à couches minces
Emballage IC:
Séparation précise de la matrice pour les techniques d'emballage avancées (fan-out, empilement 3D)
Production de cellules solaires:
Compatible avec les matériaux de semi-conducteurs en silicium et composé
Points de vente uniques:
- Coupe sans contact: évite la contrainte et la contamination mécaniques
- Surveillance en temps réel: le système alimenté par AI détecte les défauts pendant le traitement
- Efficacité énergétique: faible consommation d'énergie par rapport aux méthodes de coupe traditionnelles
- Paramètres personnalisables: Fréquence de puissance laser réglable et d'impulsion



FAQ du produit:
Q1: Quelle est la taille maximale de la tranche que ce coupe-laser peut gérer pour les applications semi-conductrices?
R: Notre équipement prend en charge les plaquettes jusqu'à 300 mm x 300 mm, ce qui le rend idéal pour la production de CI et de MEMS à grande échelle.
Q2: Comment la coupe laser minimise-t-elle les dommages thermiques aux plaquettes de silicium?
R: Nous utilisons un laser à fibre 1064 nm avec un contrôle précis d'impulsion et une surveillance de la température en temps réel pour assurer une zone (Haz) touchée par la chaleur (Haz) de moins de 1 μm, protégeant l'intégrité de la tranche.
Q3: L'équipement est-il compatible avec les environnements de salle blanche dans les FAB semi-conducteurs?
R: Oui! Nos machines répondent aux normes ISO Class 1000 Cleanroom et présentent des conceptions résistantes à la contamination pour l'emballage IC et la fabrication MEMS.
Q4: Le système de découpe laser à la plaquette peut-il traiter les matériaux non silicium comme GaAs ou Quartz?
R: Absolument. Le système est compatible avec le silicium, le quartz, le verre et les GaAs, soutenant diverses applications dans la fabrication de la photonique et de la fabrication de semi-conducteurs composés.
Q5: Quel est le débit typique des détruits à plaquettes à volume élevé?
A:Avec notreSystème d'alignement automatisé, la machine réalise jusqu'à500 gaufrettes / heure(Varie selon la complexité du modèle), assurant une production efficace pour les FAB semi-conducteurs.
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